光刻机之是以紧要，因为它是芯片制造的中枢开垦，它的先程度度决定着芯片制造的制程水平。因此，晶圆代工场要发展更先进的制程，就需要购买更先进的光刻机。

于是，谁掌持了先进光刻机技能，谁就能连忙拿下更多市集份额。荷兰ASML因为领先并独家掌持EUV技能，成为完全的光刻机霸主。不外，EUV技能也迎来挑战！

最早的光刻机霸主其实是好意思企三巨头GCA、优特、珀金埃尔默，自后被日本半导体产业兴起，尼康和佳能跳跃好意思企成为新光刻机霸主，其时堪称日本“光刻机双雄”。

跟着芯片制程持续减轻，从上世纪90年代启动，光刻机竞争就连合在了光源波长的竞争，之前的光刻机光源的波长照旧从365nm镌汰到193nm，再往下就出现不合。

其时光刻机巨头尼康依然宝石传统光刻技能，插足巨资不绝研发干式157nm光源。

到2002年时，台积电群众林本坚提议湿式光刻技能，也等于“浸润式光刻”。传统光刻机技能中，镜头和光刻胶之间介质是空气，林本坚提议在光刻胶上方加一层水。

礼聘林本坚这种技艺，能够在不改变光刻机波长的情况下，作念出等效134nm的波长。

尼康尽管在干式光刻技能研发上还没灵验率，但照旧插足多半研发用度，很难改革筹商标的，于是就莫得收受林本坚技能，而这个决定让尼康错失了光刻机霸主地位。

其时并不起眼、还在苦苦叛逆的ASML决定收尾一搏，和台积电共同研发浸润式光刻机，很快于2004年推出浸润式DUV，2007年就成为主流，ASML成为新的霸主。

不仅此次，在接下来的EUV技能研发中，英特尔牵头设置了EUV研发定约，拒却尼康加入，ASML积极争取，在搭理某些条目后，独享EUV技能，如今独家掌握EUV。

如今，ASML依然独家分娩EUV光刻机，还更进一步推出了更高端的High-NA EUV。

ASML凭借技能上风，占据了公共光刻机市集80%傍边的市集份额，日本尼康和佳能各自仅剩下10%傍边。不外，尼康和佳能也并莫得烧毁，一直在发奋追逐ASML。

其中，尼康弃取研发浸润式光刻机，也推出能罢了5nm制程的DUV，但产量不太大。

而佳能则弃取了另一条技能说念路，等于NIL纳米压印光刻技能，传奇当今照旧不错罢了5nm制程的芯片，2025年罢了2nm级别，要道是该技能比EUV资本低10倍。

如今，佳能的NIL光刻机已不是技能层面，而是进入产线量产应用，日本铠侠照旧将NIL技能期骗在15nm NAND闪存上。跟着NIL技能的完善，势必会要挟到EUV。

不仅如斯，日本近日又传来新音书，高能加速器研发组织近日筹商发现，可利用粒子加速器罢了更短的EUV光源波长，况且资本可镌汰数倍，能替代现存EUV光源。

由此可见，日本并不宁愿光刻机被ASML卓绝了，一直在积极研发，思要罢了反超。

ASML诚然推出了更高端的High-NA EUV光刻机，但情况也不太乐不雅，之前仅英特尔一家购买，前段时期还传出台积电方面暗意价钱过于立志，暂时不筹商购买新款。

一台EUV照旧1.5亿欧元，High-NA EUV照旧高达3.5亿欧元，晶圆巨头也难承受。

不单台积电，日本Rapidus也暗意暂时不会采购High-NA EUV。但ASML近日对外在示，台积电、三星等照旧订购了High-NA EUV，况且他们还在研发更高端的EUV。

大致是看到EUV替代技能出现了，ASML进犯公布新决策，有盘算在2030年推出更高端的Hyper-NA EUV。之前，ASML技能官曾暗意，High-NA EUV可能是终末的EUV。

因为Hyper-NA EUV的资本高到不成思象，High-NA EUV价钱照旧太高了，再高不知说念还有莫得晶圆厂能承受，但若是EUV竞争技能持续出现，ASML只可不绝前行。

对咱们来说，这些皆是好的标的率领，咱们也要加速关连技能研发，争取早日国产！

佳能尼康光刻机林本坚台积电发布于：河北省声明：该文不雅点仅代表作家本东说念主，搜狐号系信息发布平台，搜狐仅提供信息存储空间作事。